Стеклянные диски с критической оптической плоскостью для отложения тонкой пленки

Стеклянные диски с критической оптической плоскостью для отложения тонкой пленки

Материал

• Стекло высокой чистоты: обычно изготавливается из расплавленного кремния (JGS1/JGS2), боросиликата или кварца, выбранного для сверхнизкой тепловой экспансии и химической инертности.

  • Сплавленный кремний: предпочтительно из-за его исключительной однородности, низкого содержания OH и устойчивости к тепловым ударам.

  • Боросиликат: экономически эффективная альтернатива с умеренной тепловой стабильностью и хорошей полируемостью поверхности.

• Качество поверхности: Проектировано с плоскостью λ/10 до λ/20 для обеспечения минимального отклонения для точных покрытий.

Ключевые свойства

1. Оптическая плоскость: Плоскость поверхности ≤ λ/10 (при 632,8 нм), критическая для равномерного отложения тонкой пленки и минимизации искажения фронта волны.

2. Тепловая устойчивость: Низкий коэффициент теплового расширения (например, 0,55 x 10−6/°C для расплавленного кремния) предотвращает деформацию при высокотемпературных процессах, таких как CVD или распыливание.

3. Устойчивость к химическим веществам: инертный к кислотам, плазме и растворителям, обеспечивающий долговечность в агрессивной среде отложения.

4. Однородность поверхности: Однородность показателя преломления (±5 x 10−6) позволяет избежать оптических искажений в покрытых пленках.

5. Механическая долговечность: высокая твердость (Mohs 5 ̊7) устойчива к царапинам во время обработки и обработки.

Функция

• Тонкопленочная подложка: обеспечивает сверхплоскую, стабильную основу для отложения покрытий (антиотражательные, диэлектрические, металлические).

• Совместимость процессов: Совместима с PVD, CVD, ALD и методами распыливания, обеспечивая равномерную адгезию и толщину пленки.

• Справочник по метрологии: служит стандартом калибровки для интерферометров и профилировщиков поверхностей благодаря точной плоскости.

Заявления

• Производство полупроводников: фотомаски, EUV-литографические зеркала и оптические устройства MEMS.

• Оптическая промышленность: покрытые фильтры, разделители лучей и лазерная оптика, требующая точности на нанометровом уровне.

• Исследования и разработки: Нанотехнологии, фотоника и квантовые вычисления.

• Аэрокосмическая и оборонная промышленность: точные датчики, спутниковая оптика и лазерные системы наведения.

• Медицинские изделия: оптические покрытия для систем визуализации, эндоскопов и диагностического оборудования.