Высокоточный JGS1 JGS2 Сплавленный кристаллический стеклянный оптический компонент

Высокоточный оптический компонент из плавленого кварца JGS1 JGS2

1. Состав материала

• Плавленый кварц JGS1: Синтетическое кварцевое стекло с исключительным пропусканием ультрафиолета (УФ), особенно в глубоком УФ-диапазоне (185-250 нм), и низким содержанием гидроксила (OH).

• Плавленый кварц JGS2: Синтетическое кварцевое стекло с превосходным пропусканием инфракрасного (ИК) излучения и более высокой термической стабильностью, с более высоким содержанием гидроксила для различных оптических характеристик.

• Высокоточная обработка: Компоненты изготавливаются с использованием передовых методов шлифовки с ЧПУ, алмазной обработки и полировки для достижения субмикронной точности поверхности и жестких допусков по размерам.

2. Основные оптические и физические свойства

• Диапазон спектрального пропускания:

  • JGS1: Отличное пропускание от 185 нм (глубокий УФ) до 2,5 µм (ближний ИК).

  • JGS2: Отличное пропускание от 260 нм (УФ) до 3,5 µм (средний ИК).

• Термическая и механическая стабильность: Чрезвычайно низкий коэффициент теплового расширения (0,55 x 10⁻⁶/K), высокая устойчивость к тепловому удару и высокая механическая прочность.

• Качество поверхности: Может достигать лазерной обработки поверхности (например, плоскостность λ/10, 10-5 царапин-сколов) с минимальным повреждением под поверхностью.

• Устойчивость к лазерному повреждению: Высокий порог, подходящий для эксимерных, УФ и мощных лазерных применений.

3. Основные функции

• Точное пропускание и управление светом: Управляет УФ-ИК светом с минимальными искажениями волнового фронта, рассеянием или поглощением.

• Управление лучом и фокусировка: Служит высокоточными линзами, окнами, призмами и зеркалами в сложных оптических путях.

• Экологический и тепловой барьер: Защищает чувствительную внутреннюю оптику в нестабильных средах, сохраняя стабильность в широком диапазоне температур.

• Критический интерфейс системы: Обеспечивает оптимальную производительность в приложениях, требующих точного оптического выравнивания и минимальных потерь сигнала.

4. Основные области применения

• Полупроводниковая фотолитография: Критические компоненты в степперах и сканерах, использующих глубокие УФ (DUV) лазеры.

• Мощные лазерные системы: Окна, линзы и оптика для передачи луча для эксимерных, Nd:YAG и волоконных лазеров.

• Астрономия и космическая оптика: Зеркала телескопов, спутниковые линзы и компоненты спектрометров, требующие термической стабильности.

• Аналитические и медико-биологические приборы: Кюветы УФ-видимого спектрофотометра, окна детектора флуоресценции и оптика микроскопов.

• Промышленная метрология и контроль: Прецизионная оптика для лазерных интерферометров, систем контроля пластин и оптических координатно-измерительных машин.